什么是磨粒流磨削，也稱為磨粒流加工（AFM）或擠壓珩磨（extrude honing？），是一種應(yīng)用于多種行業(yè)的精密精加工技術(shù)。此過程的一些應(yīng)用包括：

去毛刺

邊半徑生成

表面改進(jìn)（拋光）

熱重鑄層的去除

將復(fù)雜的內(nèi)部形狀拋光至鏡面光潔度

創(chuàng)建/改進(jìn)閥門和配件內(nèi)的氣體/液體流動(dòng)路徑

為什么使用磨粒流加工？

磨粒流加工是20世紀(jì)60年代發(fā)展起來的一種對(duì)內(nèi)表面進(jìn)行平滑和拋光并產(chǎn)生可控半徑的方法。手工拋光或去毛刺可能導(dǎo)致結(jié)果不一致或效率低下，并且可能無法在復(fù)雜或內(nèi)表面上執(zhí)行。

該工藝還可以優(yōu)化流動(dòng)系數(shù)或提高某些零件的高、低周疲勞強(qiáng)度。

過程

磨料流加工是指在含磨料、粘彈性化合物或磨料介質(zhì)的壓力下，通過夾具在待拋光、去毛刺和半徑區(qū)域上來回流動(dòng)。在典型的雙向流動(dòng)過程中，兩個(gè)垂直相對(duì)的圓柱體通過工件和工具形成的通道來回?cái)D壓研磨介質(zhì)。在單向系統(tǒng)中，研磨介質(zhì)僅向一個(gè)方向流動(dòng)，允許介質(zhì)從零件中流出，以便快速加工、輕松清潔或簡(jiǎn)單快速更換工具。

這個(gè)過程包括三個(gè)基本要素：夾具、機(jī)器和磨料。

固定裝置

夾具的設(shè)計(jì)是為了提高待加工區(qū)域內(nèi)磨料的速度。速度的增加將材料的去除集中在工件的特定區(qū)域。夾具可以由廉價(jià)的結(jié)構(gòu)級(jí)尼龍制成，提供更充分的強(qiáng)度與重量比，并且可以方便地加工成定制配置。高產(chǎn)量的夾具由鋼或鋁制成，并使用聚氨酯涂層的刀片來保護(hù)工件不受磨料劃傷或開槽。根據(jù)零件尺寸和機(jī)器尺寸，夾具可以容納1到50個(gè)或更多。

流動(dòng)磨床具有多種功能。首先，它必須能夠在規(guī)定的壓力（PSI/MPa）或流量（立方英寸/秒/升/分鐘）下泵送研磨介質(zhì)。其次，它必須能夠夾持和密封夾具之間的上下介質(zhì)缸，在雙向流動(dòng)系統(tǒng)。這兩種功能通常都由液壓缸完成。

研磨介質(zhì)通過推動(dòng)下介質(zhì)活塞從預(yù)加載的下介質(zhì)缸中泵出，然后流過夾緊夾具，最后向上進(jìn)入上介質(zhì)缸。當(dāng)下介質(zhì)活塞完全前進(jìn)時(shí)，流動(dòng)反向；上介質(zhì)活塞前進(jìn)，使介質(zhì)通過夾具返回下缸。此流動(dòng)循環(huán)代表一個(gè)序列，重復(fù)此循環(huán)，直到達(dá)到預(yù)設(shè)的總介質(zhì)位移值（立方英寸/升）。

大多數(shù)生產(chǎn)的AFM機(jī)器還包括一個(gè)介質(zhì)冷卻器，用于去除由研磨作用產(chǎn)生的熱量，以及一個(gè)夾具運(yùn)輸裝置，例如穿梭機(jī)或轉(zhuǎn)臺(tái)，用于將夾具從裝載/卸載站索引到介質(zhì)氣缸之間的處理位置。自動(dòng)介質(zhì)貯存器可用于用研磨介質(zhì)預(yù)填充內(nèi)部體積較大的夾具，并確保有足夠的介質(zhì)使機(jī)器始終在其全排量活塞行程下運(yùn)行（以避免“短循環(huán)”）。

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研磨介質(zhì)系統(tǒng)

磨料流磨削中使用的磨料介質(zhì)提供了實(shí)際的材料去除：拋光、去毛刺和邊緣半徑。基質(zhì)是一種粘彈性半固體，其粘度范圍從堅(jiān)硬的膩?zhàn)訝畈牧系饺彳浀摹缀跸裼椭某矶炔坏取Ｔ赪inbro Flow Grinding，我們根據(jù)客戶的特殊研磨需求定制這種材料。請(qǐng)?jiān)谖覀兊难心ソ橘|(zhì)系統(tǒng)頁面中閱讀有關(guān)此定制解決方案的更多信息。

定制解決方案

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研磨介質(zhì)系統(tǒng)

磨粒流磨削（也稱為磨粒流加工-AFM）中使用的磨料介質(zhì)提供實(shí)際的材料去除：拋光、去毛刺和邊緣半徑。每種介質(zhì)配方由聚合物、可流動(dòng)載體組成，其中混合了一種或多種粒度的磨料顆粒。載體或介質(zhì)基是一種粘彈性半固體，其粘度范圍從堅(jiān)硬的膩?zhàn)訝畈牧系饺彳浀摹缀跸裼椭某矶炔坏取＝橘|(zhì)基部的彈性特性支持磨粒流過表面或通過內(nèi)部通道，以通過純研磨作用細(xì)化表面和邊緣。媒體基地本身由高彈性的硼硅氧烷“彈跳膩?zhàn)印本酆衔锱c油基潤(rùn)滑劑混合，以增加流動(dòng)性。聚合物含量高的載體將是堅(jiān)硬的，可用于拋光或半徑大的特征；潤(rùn)滑劑含量高的載體將是柔軟的，很容易通過小通道或長(zhǎng)通道。

盡管任何類型的自由磨料顆粒都可以混合到載體中，但最常用的磨料是碳化硅和氧化鋁。它們?cè)诟咝阅芎椭械瘸杀局g提供了良好的平衡。通常，所用磨料的尺寸從粗的20目磨料（平均粒徑~0.9mm）到非常細(xì)的600目磨料（平均粒徑~0.9mm）。研磨介質(zhì)將包含約25%至約67%的磨粒（按重量計(jì)）。

配方代碼

Winbro流動(dòng)磨削磨料介質(zhì)的配方代碼描述了基體的聚合物含量和介質(zhì)的磨料含量。通過理解公式代碼，用戶可以確定該介質(zhì)的特性，從而智能地選擇要用于給定操作的介質(zhì)。例如：

WB57-20S（30）-36S（35）

該研磨介質(zhì)中的載體含有57%的聚合物，且相對(duì)較硬。磨料含量為混合物：30%（按重量計(jì)）20目碳化硅磨料加35%（按重量計(jì)）36目碳化硅磨料（總共65%磨料顆粒/35%介質(zhì)基）。這將是一個(gè)沉重和侵略性的媒體，這將適合拋光大型鑄造工業(yè)閉式泵葉輪內(nèi)部通道。

WB35-80（50）

這種研磨介質(zhì)中的載體只有35%的重量聚合物，因此它比前面的例子更柔軟，更易流動(dòng)。磨料粒度單一，為80目較細(xì)的碳化硅，磨料含量為50%（按重量計(jì)）。該介質(zhì)用于去除流體控制部件或電樞中相對(duì)較小直徑（2-3 mm）的孔的毛刺。

WB30-320S（30）

本例中的載體更易流動(dòng)，其聚合物重量?jī)H為30%。為了進(jìn)一步提高流動(dòng)性，磨料含量也降低到只有30%的重量。由于它的低粘度和細(xì)磨粒尺寸，這種介質(zhì)將流經(jīng)非常小的直徑孔（0.4毫米），如重新拋光纖維擠出模具。

變化

磨料類型：磨料粒度后面的后綴“S”表示它是碳化硅，最常用的磨料。“A”表示氧化鋁，“B”表示碳化硼，“D”表示金剛石粉末（用于拋光碳化鎢模具）。

媒體基礎(chǔ)：所有Winbro研磨媒體配方代碼以字母“WB”開頭。我們的標(biāo)準(zhǔn)媒體基地，然后包含一個(gè)2位數(shù)的數(shù)字，描述百分比的聚合物載體。2位數(shù)字后面的字母“A”表示該介質(zhì)中的潤(rùn)滑劑已優(yōu)化用于拋光。也就是說，這種介質(zhì)提供了一個(gè)更明亮更有光澤的表面外觀，特別是在不銹鋼部件上，介質(zhì)的侵蝕性略有下降。例如：WB46A-120S（60）。2位數(shù)字后面的字母“S”表示該介質(zhì)中的潤(rùn)滑劑已針對(duì)半徑邊緣進(jìn)行了優(yōu)化。對(duì)于這些“S”介質(zhì)配方，與我們的標(biāo)準(zhǔn)介質(zhì)基礎(chǔ)相比，通過孔或通道移除的材料量顯著減少，而邊緣半徑的大小不受影響。例如：WB40S-24S（62）

應(yīng)用領(lǐng)域：適用于航空航天、軍工、兵器工業(yè)、模具、汽車、醫(yī)療、紡織、電子等行業(yè)的金屬、鎢鋼、硬質(zhì)合金、陶瓷等材料工件內(nèi)表面拋光/去毛刺/倒角等。有效提升產(chǎn)品光潔度、耐磨度、疲勞度等質(zhì)量。